مكوّنات وملحقات GC-MS

خيارات مصدر التأين عالية الأداء

توفر شيمادزو مجموعة متنوعة من مصادر التأين المحسنة تقنياً لمختلف قطبيات المواد المحللة وأوزانها الجزيئية. بالإضافة إلى التأين الإلكتروني القياسي (EI)، تشمل هذه الملحقات وحدات التأين الكيميائي (CI) والتأين الكيميائي السالب (NCI). تم هندسة هذه المصادر لتوفير تأين "ناعم"، مما يحافظ على الأيون الجزيئي ويوفر معلومات حيوية عن الوزن الجزيئي لتحديد المركبات. تتميز المصادر بأغلفة محكومة حرارياً لمنع التلوث وضمان استقرار الإشارة.

أنظمة الضخ التوربينية المتقدمة

يعد الفراغ القوي أساساً لأداء مطياف الكتلة، وتوفر شيمادزو ترقيات للمضخات التوربينية عالية السعة (TMP). تقنياً، توفر أنظمة الضخ ثنائية المدخل استقراراً فائقاً للفراغ، حتى عند استخدام معدلات تدفق غاز حامل عالية أو عند ربط النظام بوحدات أخذ عينات متخصصة. يضمن ذلك إشارة خلفية نظيفة ويحمي محلل الكتلة من جزيئات الغاز المتبقية، مما يطيل عمر الكاشف ويحسن الحساسية الإجمالية.

وحدات معالجة العينات المسبقة والحقن المدمجة

لأتمتة سير العمل التحليلي، تقدم شيمادزو ملحقات حقن العينات مثل أجهزة أخذ عينات الحيز الرأسي (HS) ووحدات الامتزاز الحراري (TD). تقنياً، تسمح هذه المكونات بالتحليل المباشر للمركبات العضوية المتطايرة (VOCs) من المصفوفات الصلبة أو السائلة دون الحاجة لاستخلاص يدوي مكثف. تضمن أطقم الواجهات نقل العينة إلى عمود GC بدون حجم ميت، مما يحافظ على شكل القمة الكروماتوغرافية ويضمن قياساً كمياً دقيقاً.

مجسات الحقن المباشر للعينات الصلبة

للعينات التي لا يمكن تبخيرها بسهولة في مدخل GC القياسي، توفر شيمادزو مجسات الحقن المباشر (DI). تقنياً، يسمح هذا الملحق بوضع العينة مباشرة في منطقة الفراغ العالي لمصدر الأيونات. يتميز المجس بعنصر تسخين قابل للبرمجة يمكنه تبخير العينة بسرعة، مما يسمح بتحليل مطياف الكتلة للبوليمرات والأدوية والمواد الأخرى غير المتطايرة، متجاوزاً عمود GC تماماً للفحص النوعي السريع.

المداخل متعددة الأنماط وملحقات PTV

مدخل التبخير المبرمج لدرجة الحرارة (PTV) هو ملحق تقني مصمم للتعامل مع حقن الأحجام الكبيرة والمركبات غير المستقرة حرارياً. على عكس المداخل القياسية، يمكن تبريد PTV بسرعة ثم تسخينه بمعدلات محكومة. يتيح ذلك الإزالة الانتقائية للمذيبات قبل تبخير المواد المحللة المستهدفة، مما يركز العينة بفعالية في رأس العمود. وتعد هذه التقنية ضرورية لتحليل الآثار في تطبيقات سلامة الأغذية والبيئة.

التحكم الدقيق في الغاز وملحقات الترشيح

تعد نقاء الغازات الحاملة والكاشفة أمراً حاسماً لمنع أكسدة العمود وتلوث مصدر الأيونات. توفر شيمادزو وحدات تحكم دقيقة في الغاز وملحقات ترشيح متخصصة تزيل الأكسجين والرطوبة والهيدروكربونات. تقنياً، يتم دمج هذه الوحدات في هندسة التحكم الإلكتروني في التدفق (EFC) بالنظام، مما يضمن الحفاظ على ضغوط الغاز بدقة متناهية، وهو أمر حيوي لتحقيق أوقات احتفاظ قابلة للتكرار وأطياف كتلة مستقرة.

الأعمدة المتخصصة وملحقات الأطوار الثابتة

يتم تحسين الواجهة بين الكروماتوغراف الغازي ومطياف الكتلة من خلال استخدام أعمدة ذات نزيف منخفض وتتحمل درجات الحرارة العالية. توفر شيمادزو أعمدة مصممة خصيصاً لتطبيقات GC-MS، تتميز بأطوار ثابتة تقلل من الضوضاء الكيميائية. تقنياً، تم هندسة هذه الأعمدة بمعالجات إلغاء تنشيط متخصصة تمنع امتزاز المركبات القطبية، مما يضمن أشكال قمم حادة ونسب إشارة إلى ضوضاء عالية حتى للمواد المحللة الصعبة.

أدوات التشخيص وأطقم الصيانة

لضمان موثوقية النظام على المدى الطويل، توفر شيمادزو ملحقات تشخيص متخصصة وأطقم صيانة. تشمل هذه الأطقم أدوات تنظيف مصدر الأيونات بدون أدوات ووحدات كشف تسرب الفراغ. تقنياً، تسمح هذه الملحقات بمراقبة النظام بشكل استباقي، مما يمكن المستخدمين من تحديد المشكلات المحتملة مثل تسرب الهواء قبل أن تؤثر على جودة البيانات. تم تصميم الأطقم لسهولة الاستخدام، مما يسهل دورات الصيانة السريعة.

اضغط هنا للتعرف أكثر على منتجات شركة Shimadzu