المواد الاستهلاكية لتقنية كروماتوغرافيا السائل - مطياف الكتلة

محاذاة الأنبوب الشعري (ESI) بدقة

يعتبر الأنبوب الشعري لـ ESI البوابة التقنية بين الكروماتوغرافيا السائلة ومطياف الكتلة. يتم تصنيع أنابيب شيمادزو الأصلية بمستويات تحمل صارمة للقطر الداخلي وحدة الطرف. تقنياً، يضمن ذلك رذاذاً إلكترونياً مستقراً عبر مجموعة واسعة من معدلات تدفق الطور المتحرك. تمنع المحاذاة الدقيقة داخل المجس وميض الرذاذ وتفريغ الكورونا، وهو أمر ضروري للحفاظ على تيار أيوني مستقر وتحقيق قياس كمي قابل للتكرار في المصفوفات المعقدة.

الموصلية الحرارية لخط إزالة المذيبات (DL) المتقدم

يعمل خط إزالة المذيبات (DL) تقنياً على تبخير مذيبات الطور المتحرك وإطلاق أيونات الطور الغازي. تم تصنيع مكونات DL من شيمادزو من مواد ذات موصلية حرارية عالية ومقاومة كيميائية، مما يضمن تسخيناً موحداً لقطيرات المذيب. تقنياً، هذا ضروري لمنع دخول الأيونات "الرطبة" إلى نظام الفراغ. يقلل إزالة المذيب بفعالية من ضوضاء الخلفية ويمنع التلوث السريع للبصريات الأيونية.

أنابيب PEEK وفولاذ مقاوم للصدأ عالية الخمول

للحفاظ على حساسية مستوى الآثار، يجب أن يكون مسار التدفق المؤدي إلى مصدر MS خاملاً تقنياً. توفر شيمادزو أنابيب PEEK وفولاذ مقاوم للصدأ متخصصة تم تنظيفها مسبقاً لإزالة الزيوت والملوثات. تقنياً، تم تصميم هذه الأنابيب لتكون متوافقة مع "الحجم الميت الصفري"، مما يعني إمكانية تثبيتها تماماً في الوصلات للتخلص من الفجوات التي قد يحدث فيها تشتت العينة، وهو أمر بالغ الأهمية للحفاظ على القمم عالية الكفاءة.

صيانة إبرة ESI المتخصصة وعمرها الافتراضي

تخضع إبرة ESI لجهود عالية ومذيبات مسببة للتآكل، مما يجعل حالتها التقنية بالغة الأهمية. تتم معالجة الإبر الأصلية لمقاومة التآكل الكهروكيميائي. تقنياً، يلزم وجود طرف إبرة ناعم للحفاظ على مخروط تايلور ثابت. من خلال استبدال الإبر وفقاً لمواصفات الشركة المصنعة، يمكن للمختبرات تجنب عدم استقرار الرذاذ وضمان بقاء كفاءة التأين ثابتة عبر آلاف الحقن.

سلامة ختم الفراغ العالي ومتانة حلقات O-Ring

تتطلب واجهة الفراغ في LC-MS حلقات O-rings عالية الأداء لمنع التسربات الجوية. يتم تصنيع هذه المستهلكات تقنياً من مواد "فلورو-إيلاستومر" عالية الجودة تتميز بمعدلات منخفضة لانبعاث الغازات ومقاومة ممتازة للمذيبات. يعد الحفاظ على ختم محكم عند مصدر الأيونات ومدخل محلل الكتلة أمراً ضرورياً تقنياً لحماية مضخات الجزيئات التربينية وضمان بقاء التيار المظلم للكاشف عند الحد الأدنى.

حماية فتحة مصدر الأيونات والقاشطة (Skimmer)

الفتحة أو القاشطة هي الفتحة التقنية التي تدخل من خلالها الأيونات إلى منطقة الفراغ العالي. توفر شيمادزو مستهلكات متخصصة لحماية وتنظيف هذه الفتحات. تقنياً، هذه المكونات عرضة للانسداد بسبب الأملاح غير المتطايرة ومصفوفة العينات. يضمن استخدام أدوات التنظيف الأصلية وقطع الغيار بقاء هندسة الفتحة دون تغيير، وهو أمر حيوي للحفاظ على الحزمة الأيونية المركزة وضمان النقل الأمثل لمحلل الكتلة.

حاويات العينات منخفضة الامتزاز لحساسية MS

تبدأ السلامة التقنية للعينة في القارورة. توفر شيمادزو قوارير متخصصة معالجة كيميائياً لتقليل امتزاز الجزيئات القاعدية أو الكارهة للماء على سطح الزجاج أو البلاستيك. بالنسبة لـ LC-MS، يعد هذا ضرورياً تقنياً لمنع فقدان المواد المحللة النزرة، مما قد يؤدي إلى استعادة ضعيفة ومنحنيات معايرة غير خطية. كما تقلل هذه القوارير من ارتشاح الصوديوم والبوتاسيوم، مما يمنع تكوين النواتج التجمعية غير المرغوب فيها.

تنقية إمدادات غاز النيتروجين المحسنة

تعد جودة غاز النيتروجين المستخدم للترذيذ والتجفيف متغيراً تقنياً يؤثر بشكل مباشر على الضوضاء الطيفية. تم تصميم فخاخ تنقية الغاز من شيمادزو لإزالة الأكسجين والرطوبة والأبخرة العضوية من تيار النيتروجين. تقنياً، يمنع هذا إدخال التداخلات الكيميائية إلى مصدر الأيونات. يضمن الغاز عالي النقاء خط أساس أنظف في الكروماتوغرام الكتلي، مما يسمح بالكشف عن الأيونات ذات الوفرة المنخفضة.

اضغط هنا للتعرف أكثر على منتجات شركة Shimadzu